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半导体行业

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行业应用

晶圆湿法清洗设备

晶圆湿法清洗设备

2024-11-06

湿法清洗工艺是一种利用化学处理、气体及物理手段去除晶圆表面杂质的流程，通过促使杂质与溶剂发生化学反应，生成可溶性物质、气体或实现直接剥离，从而达成清洁目标。

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双腔ALD原子沉积系统

双腔ALD原子沉积系统

2024-10-23

双腔ALD原子沉积系统对多点温度控制，多种通讯总线连接不同的从站，数据追踪分析，软件标准化管理等，对控制器的性能、功能及尺寸均有较高的要求。原有系统架构成本高，PLC CPU算力低。

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薄膜沉积设备

2024-10-10

薄膜沉积设备负责各工艺步骤中的介质层与金属层的沉积。按照沉积工艺不同，薄膜沉积设备分为CVD设备PVD设备和ALD设备。其控制系统具有多点温度控制、多轴运动控制、数据追踪分析等需求。

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共晶贴片机

2024-10-10

共晶贴片机在微电子元器件组装领域非常重要，可以提高制造效率、降低成本和提高产品品质。其控制系统具有多点温度控制、多轴运动控制、数据追踪分析、多种通讯总线并行、控制系统稳定性等需求。

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